本发明提供一种能够适宜在玻璃膜上形成膜的装置。成膜装置(1)具备加热辊(20)和膜形成部(30)。向加热辊(20)的表面上供给玻璃膜(10)。加热辊(20)对玻璃膜(10)进行加热。膜形成部(30)在玻璃膜(10)之上形成膜。加热辊(20)具有筒状体(21)和加热器(22)。筒状体(21)由玻璃或陶瓷构成。筒状体(21)以能够旋转的方式设置。加热器(22)配置在筒状体(21)的内部。加热器(22)对筒状体(21)进行加热。
1.一种成膜装置,其特征在于:其具备:其表面上被供给玻璃膜,对所述玻璃膜进行加热的加热辊;和,在所述玻璃膜之上形成膜的膜形成部,所述加热辊,具有:由玻璃或陶瓷构成的、能够旋转地设置的筒状体;在所述筒状体的内部配置的、对所述筒状体进行加热的加热器;和在所述筒状体的内部配置的芯体;所述加热器配置在所述芯体设置的缺口部内。
2.如权利要求1所述的成膜装置,其特征在于:所述筒状体由选自石英玻璃、结晶化玻璃、氧化铝、二氧化硅、氮化硅和碳化硅中的至少一种构成。
3.如权利要求1或2所述的成膜装置,其特征在于:还具备供给部,该供给部在所述筒状体与所述玻璃膜之间供给所述玻璃膜侧的表层的硬度比所述玻璃膜的硬度低的片。
4.如权利要求3所述的成膜装置,其特征在于:所述片由金属构成。
5.如权利要求3所述的成膜装置,其特征在于:所述片的热膨胀系数为所述玻璃膜的热膨胀系数的1倍~10倍。
6.如权利要求4所述的成膜装置,其特征在于:所述片的热膨胀系数为所述玻璃膜的热膨胀系数的1倍~10倍。
7.如权利要求1或2所述的成膜装置,其特征在于:所述加热器对所述筒状体的与所述玻璃膜接触的部分进行加热。
8.如权利要求1或2所述的成膜装置,其特征在于:所述加热器向所述筒状体照射热射线。
9.如权利要求8所述的成膜装置,其特征在于:还具备吸收层,该吸收层配置在所述筒状体的内周面之上,吸收从所述加热器照射的热射线。
10.如权利要求1或2所述的成膜装置,其特征在于:所述膜形成部由反应气体供给部或者溅射部构成,该反应气体供给部供给在所述玻璃膜上进行热反应而构成膜的反应气体,该溅射部使溅射颗粒沉积在所述玻璃膜上。
11.一种附带膜的玻璃膜的制造方法,其特征在于:使用权利要求1~10中任一项所述的成膜装置,在玻璃膜上形成膜。
12.如权利要求11所述的附带膜的玻璃膜的制造方法,其特征在于:通过热CVD法或溅射法形成所述膜。技术领域
本发明涉及成膜装置和使用该成膜装置的附带膜的玻璃膜的制造方法。
背景技术
近年来,有希望在具有挠性的玻璃膜之上成膜的要求。例如,专利文献1中,记载了如下方法:使用加热到30°C以上的罐(can),对从基板辊供给的玻璃片进行加热,在罐上,在被加热的玻璃片的表面之上,通过溅射法形成ITO(铟锡氧化物)膜。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2007-119322号公报
发明内容
发明所要解决的课题但是,专利文献1记载的方法中,作为罐的材质使用金属。为了抑制与玻璃片接触的加热到高温的金属制罐的表面被氧化而发生变质、劣化,需要将罐配置在不活泼气体气氛中进行成膜。因此,成膜装置变大,并且成膜成本上升。特别是,将该成膜装置应用在需要比溅射更高温的热CVD装置中的情况下,金属制的罐的表面氧化更容易发生。本发明的主要目的在于提供一种能够适宜在玻璃膜上成膜的装置。用于解决课题的方法本发明的成膜装置具备加热辊和膜形成部。向加热辊的表面上供给玻璃膜。加热辊对玻璃膜进行加热。膜形成部在玻璃膜之上形成膜。加热辊具有筒状体和加热器。筒状体由玻璃或陶瓷构成。筒状体以能够旋转的方式设置。加热器配置在筒状体的内部。加热器对筒状体进行加热。筒状体优选由选自石英玻璃、结晶化玻璃、氧化铝、二氧化硅、氮化硅和碳化硅中的至少一种构成。本发明的成膜装置优选还具备供给部,该供给部在筒状体与玻璃膜之间供给玻璃膜侧的表层的硬度比玻璃膜的硬度低的片。片优选由金属构成。片的热膨胀系数优选为玻璃膜的热膨胀系数的1倍~10倍。加热器也可以配置为对筒状体的与玻璃膜接触的部分进行加热。加热器优选向筒状体照射热射线。这种情况下,本发明的成膜装置还具备吸收层,该吸收层配置在筒状体的内周面之上,吸收从加热器照射的热射线。膜形成部由反应气体供给部或者溅射部构成,该反应气体供给部供给在玻璃膜上进行热反应而构成膜的反应气体,该溅射部使溅射颗粒沉积在玻璃膜上。本发明的附带膜的玻璃膜的制造方法中,使用本发明的成膜装置,在玻璃膜上形成膜。也可以通过热CVD法或溅射法形成膜。发明的效果根据本发明,能够提供能够适宜在玻璃膜上形成膜的装置。
附图说明
图1为本发明的一个实施方式的成膜装置的示意性侧面图。图2为将图1的II部分放大的示意性侧面图。图3为本发明的一个实施方式所制造的附带膜的玻璃膜的示意性侧面图。
具体实施方式
以下,说明实施本发明的优选方式的一例。但是,下述实施方式仅是示例,本发明不受下述实施方式任何限制。实施方式等中参照的附图为示意性的记载,图中绘制的物体的尺寸的比率等有可能与现实物体的尺寸的比率等不同。附图相互之间也有可能物体的尺寸比率等不同。具体的物体的尺寸比率等应当参照以下的说明酌情判断。图1为本实施方式的成膜装置1的示意性侧面图。成膜装置1为用于在具有挠性的玻璃膜10的表面10a之上形成膜11(参照图3)、制造具备玻璃膜10和膜11的附带膜的玻璃膜12的装置。玻璃膜10的厚度只要是玻璃膜10具有挠性的程度就没有特别限定。玻璃膜10的厚度,例如优选为300μm以下,更优选为100μm以下,更优选为50μm以下。构成玻璃膜10的玻璃的种类没有特别限定。玻璃膜10例如可以为硅酸盐类玻璃、硼酸盐类玻璃、磷酸盐类玻璃等。此外,本发明中,玻璃膜包括由结晶化玻璃构成的结晶化玻璃膜。膜11的种类没有特别限定。膜11可以由氧化锡、氧化铟、氧化硅、氧化钛、氧化铌、氧化钽、氧化镧等氧化物、氮化硅、氮化钛等氮化物或者硅、银、铜、铝等金属等构成。成膜装置1具备加热辊20。加热辊20具有筒状体21和加热器22。筒状体21由在筒状体21内部配置的不能旋转的芯体23,按照能够以中心轴C1为中心旋转的方式支撑。筒状体21伴随着旋转辊25a、25b的旋转,以中心轴C1为中心转动。筒状体21由玻璃或者陶瓷构成。作为筒状体21的构成材料优选使用的玻璃的具体例子,例如,可以列举石英玻璃、结晶化玻璃等。作为筒状体21的构成材料优选使用的陶瓷的具体例子,例如,可以列举氧化铝、二氧化硅、氮化硅、碳化硅等。筒状体21的外径没有特别限定。筒状体21的外径例如能够设为100mm~2000mm左右。筒状体21的厚度例如优选为3mm~20mm左右。筒状体21的厚度过小时,筒状体21的强度有可能降低。筒状体21的厚度过大时,筒状体21的热容量变大。因此,为了筒状体21的加热或者温度保持就需要给予更大的能量,还存在难以进行玻璃膜的温度调整的情况。加热器22配置在筒状体21的内部。具体来说,加热器22在芯体23设置的缺口部内,与筒状体21的内周面21a相对配置。更具体来说,加热器22相对于筒状体21的与玻璃膜10接触的部分配置,对筒状体21的与玻璃膜10接触的部分进行加热。加热器22只要将筒状体21加热到在玻璃膜10的表面10a上能够形成膜11的温度就没有特别限定。加热器22例如可以由向筒状体21照射热射线的红外线加热器或者近红外线加热器构成。这种情况下,如图2所示,优选在筒状体21的内周面21a之上预先配置吸收从加热器22照射的热射线的吸收层24。通过如此,能够提高筒状体21的加热效率。其中,吸收层24例如可以通过作为颜料的石墨或含有铁、锰等的黑色涂料构成。在筒状体21的上方,隔着筒状体21与加热器22相对配置有膜形成部30。该膜形成部30用于在玻璃膜10的表面10a上形成膜11。膜形成部30可以根据成膜方法适当构成。例如,在玻璃膜10的表面10a上通过热CVD(ChemicalVaporDeposition,化学气相沉积)法形成膜11的情况下,膜形成部30能够由反应气体供给部构成,该反应气体供给部供给在玻璃膜10上进行热反应而构成膜11的反应气体。例如,在玻璃膜10的表面10a上通过溅射法形成膜11的情况下,膜形成部30能够由溅射部构成,该溅射部使溅射颗粒沉积在玻璃膜10上。成膜装置1中设置有玻璃膜供给辊40和卷取辊41。玻璃膜供给辊40向筒状体21的外周面21b上供给未成膜的玻璃膜10。卷取辊41卷取具备玻璃膜10和在玻璃膜10的表面10a上形成的膜11的附带膜的玻璃膜12。成膜装置1中还设置有片供给辊42和片卷取辊43。片供给辊42向筒状体21的外周面21b与玻璃膜10之间供给缓冲膜44。片卷取辊43卷取从筒状体21的外周面21b与玻璃膜10之间排出的缓冲膜44。缓冲膜44由玻璃膜10侧的表层的硬度比玻璃膜10的硬度低的片构成。缓冲膜44例如可以由铝、铁、铜等的至少一种金属构成。即,缓冲膜44能够由金属膜构成。如此,成膜装置1在由玻璃或者陶瓷构成的高硬度的筒状体21与玻璃膜10之间,供给缓冲膜44。因此,能够有效抑制因筒状体21与玻璃膜10接触而在玻璃膜10的表面产生伤痕。另外,缓冲膜44在反射或吸收来自加热器22的热射线的情况下,能够进一步提高筒状体21的加热效率。缓冲膜44的厚度例如优选为10μm~100μm左右。缓冲膜44的热膨胀系数优选为玻璃膜的热膨胀系数的1~10倍左右。接着,对使用成膜装置1制造附带膜的玻璃膜12的方法进行说明。从玻璃膜供给辊40向筒状体21的外周面21b上供给玻璃膜10。在玻璃膜10与筒状体21的外周面21b之间,从片供给辊42供给缓冲膜44。由此,限制筒状体21与玻璃膜10的接触。伴随着玻璃膜10和缓冲膜44的供给,筒状体21由旋转辊25a、25b旋转驱动。由此,抑制玻璃膜10与缓冲膜44之间的摩擦、缓冲膜44与筒状体21之间的摩擦。供给到筒状体21的外周面21b上的玻璃膜10被加热辊20加热。具体来说,通过加热器22加热筒状体21,通过该被加热的筒状体21,玻璃膜10被加热到适合成膜的温度。被加热的玻璃膜10的表面10a之上,通过膜形成部30,通过溅射法或热CVD法等形成膜11,制作附带膜的玻璃膜12。制作的附带膜的玻璃膜12通过卷取辊41卷取。另一方面,缓冲膜44通过卷取辊43卷取。此外,也可以在附带膜的玻璃膜12的卷取时,与附带膜的玻璃膜12一起卷取缓冲膜44。另外,也可以与附带膜的玻璃膜12一起,卷取与缓冲膜44不同的、例如由纸、树脂等构成的膜。如此,能够抑制因附带膜的玻璃膜12之间接触引起的附带膜的玻璃膜12的损伤。如上说明,本实施方式中,加热辊20的与玻璃膜10接触的外周面通过由玻璃或陶瓷构成的筒状体21构成。因此,即使在成膜气氛中存在氧的情况下,与玻璃膜10接触的加热辊20的表面也不会被氧化。因此,能够抑制玻璃膜10的加热辊20侧的表面形状的变化。此外,没有必要另外设置抑制加热辊20的表面氧化的单元,因此,能够简化成膜装置1的构成,能够降低附带膜的玻璃膜12的制造成本。例如,使用罐的情况下,将罐升温到适于成膜的温度需要很长时间。此外,为了使热容量大的罐保持在高温,需要很大的能量。与此相对,本实施方式中,只要加热热容量小的筒状体21即可,因此,加热辊升温到适于成膜的温度需要的时间短。此外,只要将筒状体21的与玻璃膜10接触的部分保持在适于成膜的温度即可,因此,在能量效率方面也有利。符号说明1成膜装置10玻璃膜10a表面11膜12附带膜的玻璃膜20加热辊21筒状体21a内周面21b外周面22加热器23芯体24吸收层25a、25b旋转辊30膜形成部40玻璃膜供给辊41卷取辊42片供给辊43片卷取辊44缓冲膜